一种阻氚镀层及其制备方法

摘要

本发明公开了一种阻氚镀层及其制备方法，目的在于解决目前研究的阻氚镀层的氚渗透降低系数(PRF)都远小于理论值，阻氚效果较差的的问题。其包括基体、设置在基体上的多层膜，多层膜由Er₂O₃镀层、SiC镀层交替沉积而成。本发明采用Er₂O₃和SiC两种镀层复合，形成含有多层结构的阻氚镀层，且该阻氚镀层同时引入了C－、O－、Si－等氢捕获键，能够有效改善基体的阻氚性能；同时本发明在Er₂O₃和SiC镀层之间形成界面，降低了阻氚镀层贯穿性的空洞和缺陷的出现几率，提高了镀层整体的致密度，减少氚渗透通道；Er₂O₃和SiC镀层之间形成的界面，能有效改善镀层的阻氚性能。本发明为核能领域提供了一种减少乃至阻止氚渗透的新途径。

主权项

一种阻氚镀层，其特征在于，包括基体、设置在基体上的多层膜，所述多层膜由Er₂O₃镀层、SiC镀层交替沉积而成，单层的Er₂O₃镀层的厚度为10～150nm，单层的SiC镀层的厚度为10～150nm，所述多层膜的厚度为0.1μm～5μm，所述多层膜中的最底层为Er₂O₃镀层，所述多层膜通过最底层的Er₂O₃镀层沉积在基体上。