| 发明名称 |
用于湿浸式微影之光阻组成物 |
| 摘要 |
本发明提供一种新颖的光阻剂组成物，其可用于湿浸式微影法。本发明较佳的光阻剂组成物包含实质上无法与该光阻剂的树脂成分混合之一种或多种材料。本发明更佳的光阻剂组成物包含1)矽取代、2)氟取代、3)超分支聚合物(hyperbranched polymers)及/或4)聚合物粒子。本发明的特佳光阻剂显示在湿浸式微影处理期间，该光阻剂材料浸出而进入与该光阻剂层接触之湿浸流体中之量减少。 |
| 申请公布号 |
TWI454844 |
申请公布日期 |
2014.10.01 |
| 申请号 |
TW100116799 |
申请日期 |
2006.04.28 |
| 申请人 |
罗门哈斯电子材料有限公司 美国 |
发明人 |
王大洋 |
| 分类号 |
G03F7/004;G03F7/038;G03F7/039;G03F7/20 |
主分类号 |
G03F7/004 |
| 代理机构 |
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代理人 |
洪武雄 台北市中正区杭州南路1段15之1号9楼;陈昭诚 台北市中正区杭州南路1段15之1号9楼 |
| 主权项 |
一种用于处理光阻剂组成物之方法，包含：(a)在基材上施加光阻剂组成物，该光阻剂组成物包含：(i)一种或多种树脂，(ii)一种光活性成分，及(iii)实质上无法与该一种或多种树脂混合之一种或多种超分支聚合物；以及(b)使该光阻剂层湿浸暴露于用以活化该光阻剂组成物的辐射。 |
| 地址 |
美国 |
