| 发明名称 | 一种化学机械抛光液 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种化学机械抛光液，其含有激发剂，强氧化剂前体(precursor)，研磨剂和水。本发明的化学机械抛光液可显著提高钨的抛光速度。 | ||
| 申请公布号 | CN102051129B | 申请公布日期 | 2014.09.24 |
| 申请号 | CN201010238420.5 | 申请日期 | 2010.07.21 |
| 申请人 | 安集微电子(上海)有限公司 | 发明人 | 王晨;何华锋 |
| 分类号 | H01L21/304(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/304(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人 | 李佳铭 |
| 主权项 | 一种用于钨的化学机械抛光液，其含有：激发剂，强氧化剂前体(precursor)，研磨剂和水，其中所述的激发剂为由银离子和氧化剂组成的组合物，且所述的氧化剂为过氧化物，所述的强氧化剂前体(precursor)为硫酸根离子，所述的氧化剂的重量百分比为0.1～5％，所述的银离子来自于银盐，所述的银盐重量百分比0.05％～0.3％，所述的研磨剂的重量百分比为0.1～10％。 | ||
| 地址 | 201203 上海市浦东新区张江高科技园区龙东大道3000号5号楼613-618室 | ||