发明名称 |
第III族氮化物半导体器件及其制造方法 |
摘要 |
提供一种第III族氮化物半导体器件,其在第III族氮化物半导体层的(000-1)面侧与电极之间具有良好的欧姆接触,并能够在较低电压下工作。所述第III族氮化物半导体器件(100)特征在于:在所述第III族氮化物半导体层110的(000-1)面侧的规定区域120内具有多个圆顶状圆形凸部124;和在所述规定区域120的上表面上具有电极128。 |
申请公布号 |
CN104040736A |
申请公布日期 |
2014.09.10 |
申请号 |
CN201280065179.8 |
申请日期 |
2012.12.12 |
申请人 |
同和电子科技有限公司 |
发明人 |
门胁嘉孝;丰田达宪 |
分类号 |
H01L33/22(2006.01)I |
主分类号 |
H01L33/22(2006.01)I |
代理机构 |
北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 |
代理人 |
刘新宇;李茂家 |
主权项 |
一种具有第III族氮化物半导体层的第III族氮化物半导体器件,其包含:在所述第III族氮化物半导体层的(000‑1)面侧的规定区域内的多个圆顶状圆形凸部;和在所述规定区域的上表面上的电极。 |
地址 |
日本东京都 |