一种用于清洗医疗器械的真空超声清洗装置

摘要

本实用新型涉及一种用于清洗医疗器械的真空超声清洗装置，真空超声清洗装置包括清洗舱、加热机构、进水机构、排水机构、抽真空机构、破真空机构、压力传感器以及超声波发生器，加热机构以及超声波发生器设置于清洗舱的底部，进水机构以及排水机构分别与清洗舱的进水口和排水口连接，抽真空机构与清洗舱上部的抽真空口连接，破真空机构与设置于清洗舱上部的进气口连接，压力传感器与清洗舱的压力接口连接。本实用新型清洗效果好，清洗速度快，操作方便，即降低了清洗人员的被感染几率，又杜绝了人工清洗时由于个人原因而引起的清洗质量不稳定问题。

主权项

一种用于清洗医疗器械的真空超声清洗装置，其特征在于，所述真空超声清洗装置包括清洗舱、加热机构、进水机构、排水机构、抽真空机构、破真空机构、压力传感器以及超声波发生器，所述加热机构以及所述超声波发生器设置于所述清洗舱的底部，所述进水机构以及排水机构分别与所述清洗舱的进水口和排水口连接，所述抽真空机构与所述清洗舱上部的抽真空口连接，所述破真空机构与设置于所述清洗舱上部的进气口连接，所述压力传感器与所述清洗舱的压力接口连接。