| 发明名称 | 提高大气压等离子体射流阵列空间均匀性的方法 | ||
| 摘要 | 一种提高大气压等离子体射流阵列空间均匀性的方法，其特征在于在大气压等离子体射流阵列的工作气体纯氦气体中添加氧气，氦气流速为3L/min，氧气流速为0.003～0.007L/min。本发明可使等离子体射流阵列具有最优的空间均匀性。 | ||
| 申请公布号 | CN103997842A | 申请公布日期 | 2014.08.20 |
| 申请号 | CN201410113763.7 | 申请日期 | 2014.03.25 |
| 申请人 | 中国科学院电工研究所 | 发明人 | 章程;邵涛;杨文晋;周中升 |
| 分类号 | H05H1/26(2006.01)I | 主分类号 | H05H1/26(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京科迪生专利代理有限责任公司 11251 | 代理人 | 关玲 |
| 主权项 | 一种提高大气压等离子体射流阵列空间均匀性的方法，其特征在于在大气压等离子体射流阵列的工作气体纯氦气体中添加氧气，氦气流速为3L/min，氧气流速为0.003～0.007L/min。 | ||
| 地址 | 100190 北京市海淀区中关村北二条6号 | ||