| 发明名称 | 感光化射线性或感放射线性树脂组成物、感光化射线性或感放射线性膜、空白屏蔽及图案形成方法 | ||
| 摘要 | 根据一个实施例，感光化射线性或感放射线性树脂组成物包括化合物(A)，化合物(A)含有含至少一个酚羟基的结构(P)以及含至少一个氢原子由具有含酸交联基团的环状结构的基团(S)置换的酚羟基的结构(Q)，其中具有含酸交联基团的环状结构的基团(S)为具有多环结构的基团或具有含羟甲基及/或烷氧基甲基的环状结构的基团。 | ||
| 申请公布号 | CN103907059A | 申请公布日期 | 2014.07.02 |
| 申请号 | CN201280053635.7 | 申请日期 | 2012.11.08 |
| 申请人 | 富士胶片株式会社 | 发明人 | 土村智孝;滝沢裕雄 |
| 分类号 | G03F7/038(2006.01)I;C08F212/02(2006.01)I;G03F7/004(2006.01)I;H01L21/027(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/038(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人 | 臧建明 |
| 主权项 | 一种感光化射线性或感放射线性树脂组成物，包括化合物(A)，所述化合物(A)含有含至少一个酚羟基的结构(P)以及含至少一个氢原子由具有含酸交联基团的环状结构的基团(S)置换的酚羟基的结构(Q)，其中所述具有含酸交联基团的环状结构的基团(S)为具有多环结构的基团或具有含羟甲基及/或烷氧基甲基的环状结构的基团。 | ||
| 地址 | 日本东京港区西麻布二丁目26番30号 | ||