| 发明名称 | 堆叠掩模 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种堆叠掩模。该掩模包括：低热膨胀材料(LTEM)衬底、至少两个吸收层以及分离这两个吸收层的间隔层。第一吸收层沉积在LTEM衬底上方。该掩模进一步包括位于吸收层的上方的顶涂层。间隔层的厚度约等于晶圆衬底上的构形部件的高度乘以物镜的缩倍的平方。吸收层包括阶段图案。 | ||
| 申请公布号 | CN103885284A | 申请公布日期 | 2014.06.25 |
| 申请号 | CN201310132002.1 | 申请日期 | 2013.04.16 |
| 申请人 | 台湾积体电路制造股份有限公司 | 发明人 | 林本坚;李信昌;秦圣基 |
| 分类号 | G03F1/58(2012.01)I | 主分类号 | G03F1/58(2012.01)I |
| 代理机构 | 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 | 代理人 | 章社杲;孙征 |
| 主权项 | 一种掩模，包括：低热膨胀材料(LTEM)衬底；至少两个吸收层，其中第一吸收层沉积在所述LTEM衬底的上方；以及间隔层，分离这两个吸收层。 | ||
| 地址 | 中国台湾新竹 | ||