| 发明名称 | 一种掩膜板及其实现曝光接合的方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种掩膜板及其实现曝光接合的方法，在该掩膜板上用于曝光接合的部位设置有图形，该图形用于：结合所述掩膜板上的所述图形进行曝光接合后，在基板上形成具有特定位置关系的能够对所述掩膜板进行位置上的调校的图形。因此，通过所述掩膜板进行曝光接合后，会在基板上形成具有特定位置关系的图形，可以根据该图形对所述掩膜板进行位置上的调校。本发明掩膜板及其实现曝光接合的方法，均可有效保证曝光接合的精度，因而避免了曝光接合不良的发生。 | ||
| 申请公布号 | CN103869602A | 申请公布日期 | 2014.06.18 |
| 申请号 | CN201210545317.4 | 申请日期 | 2012.12.14 |
| 申请人 | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 | 发明人 | 周子卿;李正勋;金基用;贠向南;许朝钦 |
| 分类号 | G03F1/38(2012.01)I;G03F7/20(2006.01)I | 主分类号 | G03F1/38(2012.01)I |
| 代理机构 | 北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 | 代理人 | 张颖玲;程立民 |
| 主权项 | 一种掩膜板，其特征在于，该掩膜板用于曝光接合的部位设置有图形，该图形用于：结合所述掩膜板上的所述图形进行曝光接合后，在基板上形成具有特定位置关系的能够对所述掩膜板进行位置上的调校的图形。 | ||
| 地址 | 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 | ||