| 发明名称 | 抗反射膜、使用其的光学部件和光学仪器 | ||
| 摘要 | 本实用新型涉及一种抗反射膜、使用其的光学部件和光学仪器。所述抗反射膜为，在基材的表面上从基材侧顺序层压第1层～第9层而形成的抗反射膜，第2层、第4层、第6层和第8层为由对于波长587.56nm的He光源的d线呈现2.21以上且2.70以下的折射率的高折射率材料形成的高折射率层，第1层、第3层、第5层和第7层为由对于上述d线呈现1.40以上且不足1.55的折射率的中间折射率材料形成的中间折射率层，第9层为由对于上述d线呈现1.35以上且不足1.40的折射率的低折射率材料形成的低折射率层，所述抗反射膜对于可见区的波长范围390～720nm的光的反射率在0.2%以下。 | ||
| 申请公布号 | CN203643625U | 申请公布日期 | 2014.06.11 |
| 申请号 | CN201320569682.9 | 申请日期 | 2013.09.13 |
| 申请人 | 理光映像有限公司 | 发明人 | 藤井秀雄;竹友裕树 |
| 分类号 | G02B1/11(2006.01)I | 主分类号 | G02B1/11(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京戈程知识产权代理有限公司 11314 | 代理人 | 程伟;唐瑞庭 |
| 主权项 | 一种抗反射膜，其特征在于，其为在基材的表面上从上述基材侧顺序层压第1层～第9层而形成的抗反射膜，第2层、第4层、第6层和第8层为由对于波长587.56nm的He光源的d线呈现2.21以上且2.70以下的折射率的高折射率材料形成的高折射率层，第1层、第3层、第5层和第7层为由对于上述d线呈现1.40以上且不足1.55的折射率的中间折射率材料形成的中间折射率层，第9层为由对于上述d线呈现1.35以上且不足1.40的折射率的低折射率材料形成的低折射率层，所述抗反射膜对于可见区的波长范围390～720nm的光的反射率在0.2%以下。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||