发明名称 一种折射率传感器及其探测方法
摘要 本发明公开了一种折射率传感器及其探测方法。本发明的折射率传感器包括:激发装置和测量装置;激发装置包括单色光源、聚焦器件和传感器芯片;测量装置由漏辐射显微镜系统组成,包括油浸物镜、成像透镜和CCD相机;单色光源经聚焦器件入射到传感器芯片上激发起表面等离激元SP,由油浸物镜收集SP的漏辐射光,经成像透镜后,和另一束参考光同时入射到CCD相机上并发生干涉,CCD相机记录干涉条纹的信息,根据干涉条纹周期来监测金属薄膜上表面待测样品的折射率。本发明的优点在于只需单波长光源,结构简单、成本低;测量对于入射光源的强度波动和探测器的噪声并不敏感;提高了数据测量的准确性;可以实现传感器的微型化和多通道探测。
申请公布号 CN102654457B 申请公布日期 2014.06.04
申请号 CN201210152335.6 申请日期 2012.05.16
申请人 北京大学 发明人 张家森;温秋玲
分类号 G01N21/45(2006.01)I 主分类号 G01N21/45(2006.01)I
代理机构 北京万象新悦知识产权代理事务所(普通合伙) 11360 代理人 张肖琪
主权项 一种折射率传感器,其特征在于,所述折射率传感器包括:激发装置和漏辐射显微镜系统;激发装置包括单色光源(1)、聚焦器件(2)和传感器芯片;漏辐射显微镜系统包括油浸物镜(41)、成像透镜(42)和CCD相机(43);单色光源(1)发射出来的激光经聚焦器件(2)聚焦,入射到传感器芯片上激发起表面等离激元,产生的表面等离激元沿传感器芯片的金属薄膜的表面传播并以漏辐射场的形式从传感器芯片辐射出来,由油浸物镜(41)收集表面等离激元的漏辐射光,经成像透镜(42)入射到CCD相机(43)上,另有一束参考光同时入射到CCD相机(43)上与漏辐射场发生干涉,并被CCD相机(43)记录干涉条纹的信息;传感器芯片进一步包括:金属薄膜(32),在金属薄膜(32)上刻有光栅结构(33),待测样品(34)放置在金属薄膜(32)上,金属薄膜(32)镀在透明衬底(31)上。
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