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Verfahren zum Herstellen einer implantierbaren Elektrodenstruktur für eine neuronale Schnittstelle, wobei das Verfahren umfasst:–Herstellen eines ersten Elektrodenmoduls (10) und wenigstens eines zweiten Elektrodenmoduls (20), wobei für das erste Elektrodenmoduls (10) und für wenigstens ein zweites Elektrodenmoduls (20) jeweils–auf einem ersten Substrat (71, 71') aus Silikon eine Anzahl von Elektrodenkontaktflächen (50, 50') und eine Anzahl von Leiterbahnen (30, 30') erzeugt werden,–auf dem ersten Substrat (71, 71') und den darauf erzeugten Elektrodenkontaktflächen (50, 50') und Leiterbahnen (30, 30') ein zweites Substrat (72, 72') aus Silikon aufgebracht wird, und–in dem jeweiligen zweiten Substrat (72, 72') im Bereich der Elektrodenkontaktflächen (50, 50') Öffnungen hergestellt werden, und–Aufbringen des wenigstens einen zweiten Elektrodenmoduls (20) auf das erste Elektrodenmodul (10), wobei das erste Substrat (71') des wenigstens einen zweiten Elektrodenmoduls (20) auf dem zweiten Substrat (72) des ersten Elektrodenmoduls (10) angeordnet wird,–wobei in dem wenigstens einen zweiten Elektrodenmodul (20) Löcher (60) erzeugt werden, welche jeweils das erste Substrat (71') und das zweite Substrat (72') des zweiten Elektrodenmoduls (20) durchdringen, wobei die Löcher (60) so angeordnet werden, dass sie beim Aufbringen des zweiten Elektrodenmoduls (20) auf das erste Elektrodenmodul (10) jeweils mit genau einer Elektrodenkontaktfläche (50) des ersten Elektrodenmoduls (10) korrespondieren. |
