光敏丙烯酸AED树脂和包括它的负性光致抗蚀剂组合物及其制备方法

摘要

本发明公开采用阳极电沉积工艺制备的负性光致抗蚀剂的组合物，该光致抗蚀剂组合物主要包含，除了去离子水以外，(A)一种光敏丙烯酸阳极电沉积（AED）基料，(B)多官能度的活性稀释剂，(C)碱性中和剂和(D)光引发体和（E）水性色浆。所述的光致抗蚀剂通过阳极电沉积的方法自动化程度高，膜层薄而致密、厚度均匀、与电极表面结合得非常紧密，能保证在精细化时在细线上有足够的、强劲的粘合力,可以提高在显影、蚀刻时的可靠性，并且很大程度减少了VOC的排放。该光致抗蚀材料可应用于印刷线路板抗蚀刻成像油墨、液晶显示器彩色滤光片等领域。

主权项

1.光敏丙烯酸AED树脂，其特征在于，其分子结构为：其中，x、y、z、w各自表示主链中的重复单元数，每一个数均满足x+y+z=1，0<x/(x+y+z)<0.2，0<y/(x+y+z)<0.2,0<z/(x+y+z)<0.6，0.1<w/(x+y+z)<0.3。