发明名称 靶材及其形成方法
摘要 一种靶材及其形成方法,靶材的边缘具有斜角区。本发明通过对靶材边缘进行斜角处理,增加靶材边缘的附着表面积,使反溅射物质能更均匀、更平缓的附着在斜角区的斜面上,防止局部附着物过厚导致剥落,大大的减少了溅射反应器中高真空腔室内异常放电的情况。
申请公布号 CN102586744B 申请公布日期 2014.05.07
申请号 CN201110455069.X 申请日期 2011.12.30
申请人 余姚康富特电子材料有限公司 发明人 潘杰;姚力军;王学泽;郑文翔
分类号 C23C14/34(2006.01)I;B23P15/00(2006.01)I 主分类号 C23C14/34(2006.01)I
代理机构 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人 骆苏华
主权项 一种靶材,包括待溅射面,其特征在于,所述靶材为钛靶材,所述靶材为8寸圆形靶材,所述靶材边缘具有斜角区,所述斜角区的宽度为13.14mm~13.40mm,所述斜角区的斜面与所述待溅射面的夹角为165±1度,所述斜角具有一个斜面;所述靶材适用的真空溅射条件为:真空腔室的压力为小于等于10<sup>‑8</sup>Torr,对所述靶材施加的负偏压为‑600V,所述溅射气体包括氩气和氮气。
地址 315400 浙江省宁波市余姚市经济开发区名邦科技工业园区安山路198号