实现半导体圆片连续涂胶的方法及其净化系统

摘要

本发明提供一种实现半导体圆片连续涂胶的方法及其净化系统，用来提高半导体涂胶的效率，同时净化工作间的空气，改善涂胶工作间的室内空气，有利于工作人员的身心健康。该技术主要为：对半导体圆片进行涂胶；在涂胶机上的护盘内的废胶积累到需要清理时，取下装有废胶的第一个护盘；将装有废胶的第一个护盘放入装有有机溶剂的液体槽内，用有机溶剂对第一个护盘进行浸泡，待废胶溶解后取出，让有机溶剂挥发完全后备用，液体槽设在与工作间隔离的通风场地内；在取下装有废胶的第一个护盘的同时，将另一个清理完毕备用的第二个护盘装上涂胶机。本发明主要用于半导体光刻前的涂胶工艺中。

主权项

一种实现半导体圆片连续涂胶的方法，包括：对半导体圆片进行涂胶；在涂胶机上的护盘内的废胶积累到需要清理时，取下装有废胶的第一个护盘；将装有废胶的第一个护盘放入装有有机溶剂的液体槽内，用有机溶剂对第一个护盘进行浸泡，待废胶溶解后取出，让有机溶剂挥发完全后备用，液体槽设在与工作间隔离的通风场地内；在取下装有废胶的第一个护盘的同时，将另一个清理完毕备用的第二个护盘装上涂胶机。