| 发明名称 | 涂敷电子设备和相关方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开提供一种电子设备和相关方法，其中所述设备具有一种具有低毒性的聚合物涂层。通过将所述电子设备暴露于比如连续等离子体的等离子体而形成所述聚合物涂层，所述等离子体包含化合物CH<sub>2</sub>=C(R<sub>1</sub>)-COO-R<sub>2</sub>，其中R<sub>1</sub>包括-H或-CH<sub>3</sub>;并且其中R<sub>2</sub>包括-(CH<sub>2</sub>)<sub>2</sub>-(CF<sub>2</sub>)<sub>m</sub>-CF<sub>3</sub>，以及m是3或5。 | ||
| 申请公布号 | CN103782366A | 申请公布日期 | 2014.05.07 |
| 申请号 | CN201280030224.6 | 申请日期 | 2012.05.17 |
| 申请人 | 立可泼知识产权有限公司 | 发明人 | 菲利普·乐俊;安东尼·范兰德赫姆;彼得·马腾斯 |
| 分类号 | H01L21/205(2006.01)I;C23C16/44(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/205(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京远大卓悦知识产权代理事务所(普通合伙) 11369 | 代理人 | 史霞 |
| 主权项 | 一种涂敷电子设备的表面的方法，包含：将电子设备的表面暴露于等离子体，所述等离子体包含具有下述化学式的化合物：CH<sub>2</sub>=C(R<sub>1</sub>)‑COO‑R<sub>2</sub>其中R<sub>1</sub>包括‑H或者‑CH<sub>3</sub>，R<sub>2</sub>包括‑(CH<sub>2</sub>)<sub>2</sub>‑(CF<sub>2</sub>)m‑CF<sub>3</sub>，且m是3或5，从而在该表面上形成聚合物涂层，该聚合物涂层具有至少为5的疏油性水平。 | ||
| 地址 | 美国加利福尼亚州圣安娜大道技术中心2911号 | ||