| 发明名称 | 强磁性材料溅射靶 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种强磁性材料溅射靶，其包含Cr为20摩尔％以下、其余为Co的组成的金属，其特征在于，该靶的组织具有金属基质(A)和在所述(A)中的球形的相(B)，所述球形的相(B)含有90重量％以上的Co且长径与短径之差为0％～50％。本发明所得到的强磁性材料溅射靶，可以提高漏磁通、从而通过磁控溅射装置进行稳定的放电。 | ||
| 申请公布号 | CN102471876B | 申请公布日期 | 2014.04.30 |
| 申请号 | CN201080029130.8 | 申请日期 | 2010.09.30 |
| 申请人 | 吉坤日矿日石金属株式会社 | 发明人 | 佐藤敦;荒川笃俊 |
| 分类号 | C23C14/34(2006.01)I;C22C19/07(2006.01)I;C22C32/00(2006.01)I | 主分类号 | C23C14/34(2006.01)I |
| 代理机构 | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人 | 王海川;穆德骏 |
| 主权项 | 一种强磁性材料溅射靶，其包含Cr为20摩尔%以下、其余为Co的组成的金属，其特征在于，该靶的组织具有金属基质(A)和在所述(A)中的球形的相(B)，所述球形的相(B)含有90重量%以上的Co，所述球形是指从其中心到外周的长度中最大值与最小值之比为2以下。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||