Hoch absorbierendes Schichtsystem, Verfahren zur Herstellung des Schichtsystems und dafür geeignetes Sputtertarget

摘要

Es wird ein Licht absorbierendes Schichtsystem aus mindestens zwei Schichten vorgeschlagen, von denen eine einem Betrachter zugewandte Antireflexschicht ist, die aus einem dielektrischen Werkstoff besteht und mindestens eine weitere eine dem Betrachter abgewandte Absorberschicht aus einem Oxid oder aus einem Oxinitrid mit unterstöchiometrischem Sauerstoffgehalt ist. Das Schichtsystem hat im Wellenlängenbereich von 380 bis 780 nm insgesamt eine visuelle Transmission Tv von weniger als 1 % und eine visuelle Reflexion Rv von weniger als 6 % und es zeichnet sich aus durch einen Absorptionsindex kappa von mindestens 0,70 bei einer Wellenlänge von 550 nm aus.