发明名称 |
一种发光二极管及其制造方法 |
摘要 |
本发明提供一种发光二极管及其制造方法,先于半导体衬底表面形成发光外延层及透明导电层,并对该透明导电层进行退火;然后刻蚀出N电极制备区域,并在所述透明导电层欲制备P电极的区域形成一刻蚀窗口;接着于所述刻蚀窗口制作反射镜;最后制作P电极,使该P电极覆盖所述反射镜表面并与所述透明导电层形成欧姆接触接触,并于所述N电极制备区域制备N电极。本发明具有以下有益效果:在P电极下制备高反射层,使得发光区所产生的光子,几乎全部反射回去,很少被P电极吸收,从而提高LED芯片的出光效率。 |
申请公布号 |
CN103700735A |
申请公布日期 |
2014.04.02 |
申请号 |
CN201210367771.5 |
申请日期 |
2012.09.28 |
申请人 |
上海蓝光科技有限公司 |
发明人 |
朱广敏;郝茂盛;齐胜利;潘尧波;张楠;陈诚;袁根如;李士涛 |
分类号 |
H01L33/00(2010.01)I;H01L33/04(2010.01)I;H01L33/10(2010.01)I |
主分类号 |
H01L33/00(2010.01)I |
代理机构 |
上海光华专利事务所 31219 |
代理人 |
余明伟 |
主权项 |
一种发光二极管的制造方法,其特征在于,所述制造方法至少包括以下步骤:1)提供一半导体衬底,于所述半导体衬底表面沉积至少包括N型层、量子阱层及P型层的发光外延结构;2)于所述P型层表面蒸镀或溅射透明导电层,并对该透明导电层进行退火;3)刻蚀所述透明导电层、P型层及量子阱层以形成N电极制备区域;4)刻蚀所述透明导电层,以在欲制备P电极的区域形成一直至所述P型层的刻蚀窗口;5)于所述刻蚀窗口制作反射镜;6)制作P电极,使该P电极覆盖所述反射镜表面并与所述透明导电层形成欧姆接触接触,并于所述N电极制备区域制备N电极。 |
地址 |
201210 上海市浦东新区张江高科技园区芳春路400号 |