发明名称 两级溢流式非晶带成型设备
摘要 本实用新型涉及一种两级溢流式非晶带成型设备,解决了现有技术中使用一个坩埚,坩埚内内聚集的氧化物在弧光的推动下容易堆积在坩埚的溢流口,影响产品质量的缺陷,包括真空室及熔化装置,真空室内设置有冷却转轮,熔化装置包括坩埚及加热装置,冷却转轮上方设置有两个呈阶梯布置的坩埚,坩埚上设置有溢流口,第一级坩埚的溢流口对准第二级坩埚,第二级坩埚的溢流口对准冷却转轮。采用两个坩埚,且两坩埚按照阶梯的方式布置,第一级坩埚主要用于熔化,第二级坩埚用于承接纯净钢水,保证氧化物不会从溢流到冷却转轮上,甩带时间延长,提高产品质量。
申请公布号 CN203495167U 申请公布日期 2014.03.26
申请号 CN201320568806.1 申请日期 2013.09.13
申请人 浙江朝日科磁业有限公司 发明人 陶文革
分类号 B22D11/103(2006.01)I;B22D11/06(2006.01)I;B22D11/18(2006.01)I 主分类号 B22D11/103(2006.01)I
代理机构 杭州杭诚专利事务所有限公司 33109 代理人 尉伟敏
主权项 一种两级溢流式非晶带成型设备,包括真空室及熔化装置,真空室内设置有冷却转轮,熔化装置包括坩埚及加热装置,其特征在于冷却转轮上方设置有两个呈阶梯布置的坩埚,坩埚上设置有溢流口,第一级坩埚的溢流口对准第二级坩埚,第二级坩埚的溢流口对准冷却转轮。
地址 322000 浙江省金华市义乌市稠州西路388号