| 发明名称 | 顶针及具有该顶针的等离子体刻蚀装置 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种顶针及具有该顶针的等离子体刻蚀装置，属于半导体技术领域，其兼具良好的韧性和耐腐蚀性。本发明的顶针包括韧性针体，且所述顶针至少在前端具有耐腐蚀表面。本发明的等离子体刻蚀装置包括上述顶针。本发明可用于半导体制造工艺中。 | ||
| 申请公布号 | CN102299090B | 申请公布日期 | 2014.03.19 |
| 申请号 | CN201010219614.0 | 申请日期 | 2010.06.25 |
| 申请人 | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 | 发明人 | 李俊杰 |
| 分类号 | H01L21/683(2006.01)I;H01L21/00(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/683(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人 | 申健 |
| 主权项 | 一种顶针，其特征在于，包括韧性针体，所述韧性针体至少在前端的表面具有耐腐蚀层，所述耐腐蚀层构成所述顶针前端的耐腐蚀表面；所述耐腐蚀层为陶瓷层；所述陶瓷层厚度为50μm～100μm。 | ||
| 地址 | 100026 北京市朝阳区酒仙桥东路1号M5楼 | ||