| 发明名称 | 基板处理装置 | ||
| 摘要 | 发明提供一种基板处理装置，其抑制装置的大型化、抑制占地面积的增大。在维持为真空环境的真空搬送室(13)的周围，设置对基板进行真空处理的多个处理室(30)。上述处理室(30)构成为利用盖体(32)开闭容器主体(31)的上部开口。盖体开闭机构(6)以一边通过多个处理室(30)的各个盖体(32)的开闭位置一边沿着上述真空搬送室(13)的外周移动的方式设置。在上述盖体(32)上设置有被保持部(5)，通过使设置于盖体开闭机构(6)的盖体保持机构(7)在上述开闭位置上升，从处理室(30)抬起盖体(32)。 | ||
| 申请公布号 | CN102270565B | 申请公布日期 | 2014.03.12 |
| 申请号 | CN201110158579.0 | 申请日期 | 2011.06.07 |
| 申请人 | 东京毅力科创株式会社 | 发明人 | 田中善嗣;羽鸟一成;笠原稔大 |
| 分类号 | H01L21/00(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人 | 李伟;舒艳君 |
| 主权项 | 一种基板处理装置，其特征在于，具备：真空搬送室，其设置有基板搬送机构，并且被维持为真空环境；预备真空室，其与该真空搬送室的侧面连接；用于处理基板的多个处理室，它们以与所述预备真空室在周向分离的方式与所述真空搬送室的侧面连接且相互配置于周向，并且在各个容器主体上设置盖体；引导部件，其被设置为沿着所述真空搬送室的周向延伸；移动体，其沿着该引导部件被引导；盖体保持机构，其以通过该移动体的移动而经过所述处理室的上方的方式设置于该移动体，保持盖体并使该盖体升降，以便相对于所述容器主体装拆盖体；驱动部，其用于使所述移动体沿着所述引导部件移动。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||