一种挡光式微机电可变光衰减器的制作方法

摘要

本发明公开了一种挡光式微机电可变光衰减器的制作方法。该方法在微纳加工工艺的基础上，采用体硅加工技术制作可变光衰减器的固定挡光板和活动挡光板，通过在固定挡光板、活动挡光板上淀积挡光材料，起到对光束的遮挡限制作用；固定挡光板上制作通光孔，用于约束光斑大小，限制光的衍射作用；通过光刻、刻蚀等工艺制作可变光衰减器的活动挡光板，使活动挡光板能够在外加驱动力的作用下线性运动，通过控制活动挡光板位置，实现对传输光能量的精确调节；最后通过圆片级键合，集成可变光衰减器固定挡光板和活动挡光板，实现对传输光能量的可控调节。上述方法采用常规的微纳加工方法，工艺成熟可靠，制作精度高，可大大降低成本，适用于规模化生产。

主权项

一种挡光式微机电可变光衰减器的制作方法，该方法包括固定挡光板和活动挡光板的制作、固定挡光板和活动挡光板的键合；其中，固定挡光板的制作包括：在基片I的正面光刻、刻蚀形成凹槽结构；基片I的背面刻蚀形成通光孔，所述通光孔和凹槽结构相连通；基片I的正面淀积挡光材料，形成遮光层，完成固定挡光板的制作；所述活动挡光板的制作包括：基片II的双面淀积介质薄膜；刻蚀基片II背面的介质薄膜，形成刻蚀孔；基片II的正面淀积挡光材料，并刻蚀挡光材料，形成挡光结构及导线图形；根据所述挡光结构及导线图形依次刻蚀介质薄膜及基片Ⅱ正面，形成活动挡光板弹性结构；基片II的背面的刻蚀孔处进行湿法腐蚀，形成凹槽结构；刻蚀所述凹槽结构底部形成通光孔，使活动挡光板弹性结构悬空，完成活动挡光板的制作；所述固定挡光板和活动挡光板的键合包括：分别在制作好的固定挡光板结构的基片I背面和活动挡光板结构的基片Ⅱ正面淀积键合材料，通过光刻、刻蚀工艺形成键合结构，对基片I和基片Ⅱ进行对准，使固定挡光板上的通光孔正对活动挡光板的通光孔，然后在一定的键合温度、压强下进行键合，完成可变光衰减器的制作。