Verfahren zum Ausbilden einer elektrisch leitenden Struktur an einem Trägerelement, Schichtanordnung sowie Verwendung eines Verfahrens oder einer Schichtanordnung

摘要

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Ausbilden einer elektrisch leitenden Struktur (16) an einem Trägerelement (10), umfassend folgende Schritte: a) Beschichten des flächigen Trägerelements (10) zumindest auf der der leitenden Struktur (16) zugewandten Seite mit einer Funktionsschicht (11) b) Bereichsweises Entfernen der Funktionsschicht (11) bis zur Oberfläche des Trägerelements (10) c) Aufbringen einer ersten leitfähigen, vorzugsweise metallischen Schicht (13) auf die Funktionsschicht (11), wobei die erste Schicht (13) bis zur Oberfläche der von der Funktionsschicht (11) freigelegten Bereiche des Trägerelements (10) reicht d) Aufbringen einer zweiten leitfähigen, vorzugsweise metallischen Schicht (14) auf die erste Schicht (13) e) Bereichsweises Abtragen der zweiten Schicht (14) mittels einer ersten elektromagnetischen Strahlung in einem ersten Bearbeitungsschritt f) Bereichsweises Abtragen der ersten Schicht (13) mittels einer zweiten elektromagnetischen Strahlung in einem zweiten Bearbeitungsschritt in den Bereichen, in denen die zweite Schicht (14) entfernt wurde.