发明名称 导电体物件之制造方法
摘要 一种导电体物件之制造方法,其包含:(a)液体沈积低黏度组成物,其包含包括有机胺、银化合物及选择性地有机酸之初始成分,以产生沈积组成物;以及(b)加热该沈积组成物,以产生该含银之导电体物件。
申请公布号 TWI425689 申请公布日期 2014.02.01
申请号 TW096126107 申请日期 2007.07.18
申请人 全录股份有限公司 美国 发明人 吴怡良;翁班
分类号 H01L51/40 主分类号 H01L51/40
代理机构 代理人 何金涂 台北市大安区敦化南路2段77号8楼
主权项
地址 美国