发明名称 半导体材料制造
摘要 本发明揭示一种电子设备、系统及方法,其包括一半导体层接合至一晶圆或一基板之一主体区域,其中可使用电磁辐射将该半导体层接合至该主体区域。本发明亦揭示额外设备、系统及方法。
申请公布号 TWI423309 申请公布日期 2014.01.11
申请号 TW099103377 申请日期 2010.02.04
申请人 美光科技公司 美国 发明人 辛哈 尼许安特;珊得胡 高提杰S;史密斯 约翰
分类号 H01L21/263 主分类号 H01L21/263
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项
地址 美国