投影系统、微影装置、定位光学元件的方法及将辐射光束投影在基板上的方法

摘要

本发明提供一种投影系统，在一实施例中，该投影系统包括两个框架。该投影系统之光学元件安装于一第一框架上。该等光学元件之位置系使用一第一量测系统相对于一第二框架而量测。一第二量测系统系用以量测与该第二框架之一变形相关联的一参数。由该第二量测系统所进行之该量测可用以补偿由该第二框架之变形引起的如由该第一量测系统所量测之该等光学元件之该位置的任何误差。通常，该等框架之变形系归因于共振振荡及热膨胀。具有两个框架会使该投影系统之该等光学元件能够以一高精确度而定位。视情况，可提供一温度控制系统以在已致使微影装置离线之后将该等框架中之至少一者的温度驱动回至一所要值。