发明名称 LED外延片、其制作方法及包括其的LED芯片
摘要 本发明公开了一种LED外延片、其制作方法及包括其的LED芯片。该LED外延片包括:由衬底表面向外依次设置的GaN缓冲层、第一U型GaN层、第一N型GaN层、量子阱层以及第一P型GaN层;还包括设置在第一P型GaN层上的隧道结层。该LED外延片的制作方法包括以下步骤:在衬底表面向外依次形成GaN缓冲层、第一U型GaN层、第一N型GaN层、量子阱层和第一P型GaN层;在第一P型GaN层上形成隧道结层。采用本发明提供的LED外延片的制作方法所得到LED的驱动电压得到降低,亮度和光效得到提升。
申请公布号 CN103441195A 申请公布日期 2013.12.11
申请号 CN201310388491.7 申请日期 2013.08.30
申请人 湘能华磊光电股份有限公司 发明人 张宇
分类号 H01L33/04(2010.01)I;H01L33/00(2010.01)I 主分类号 H01L33/04(2010.01)I
代理机构 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人 吴贵明;张永明
主权项 一种LED外延片,包括由衬底(201)表面向外依次设置的GaN缓冲层(202)、第一U型GaN层(203)、第一N型GaN层(204)、量子阱层(205)以及第一P型GaN层(206),其特征在于,还包括设置在所述第一P型GaN层(206)上的隧道结层(207)。
地址 423038 湖南省郴州市白露塘有色金属产业园