一种相变材料用机械抛光液

摘要

本发明公开了一种相变材料用机械抛光液，包括下列重量份数的物质：表面活性剂1-3份，有机添加剂2-5份，调节剂1-3份，水性介质50-55份，纳米石墨粉1-2份，高岭土1-3份，季戊四醇1-5份，氰尿酸三聚氰胺盐2-3份，蒙脱土1-3份，硬脂酸2-3份，硬脂酸盐3-4份，过氧化苯甲酰1-2份，乙酸正丁酯2-3份，硬脂酰胺1-3份。本发明的抛光液性能稳定，抛光效果好，可满足制备纳电子相变存储器中工艺的需要。

主权项

一种相变材料用机械抛光液，其特征在于，包括下列重量份数的物质：表面活性剂1‑3份，有机添加剂2‑5份，调节剂1‑3份，水性介质50‑55份，纳米石墨粉1‑2份，高岭土1‑3份，季戊四醇1‑5份，氰尿酸三聚氰胺盐2‑3份，蒙脱土1‑3份，硬脂酸2‑3份，硬脂酸盐3‑4份，过氧化苯甲酰1‑2份，乙酸正丁酯2‑3份，硬脂酰胺1‑3份。