| 发明名称 | 基座系统以及化学机械研磨装置 | ||
| 摘要 | 本实用新型揭示了一种基座系统，包括基座内腔、水路、气路、水阀以及气阀，其特征在于，所述水路以及气路分别单独连接所述基座内腔，所述水阀设置于所述水路上，所述气阀设置于所述气路上。本实用新型还揭示了一种化学机械研磨装置，包括研磨头以及所述的基座系统。本实用新型中的所述基座系统将所述水路和气路分开进行控制，降低结构的复杂度，方便对所述水路和气路进行控制。 | ||
| 申请公布号 | CN203325851U | 申请公布日期 | 2013.12.04 |
| 申请号 | CN201320335718.7 | 申请日期 | 2013.06.09 |
| 申请人 | 中芯国际集成电路制造（北京）有限公司 | 发明人 | 叶维坚 |
| 分类号 | H01L21/67(2006.01)I;H01L21/683(2006.01)I;B24B37/34(2012.01)I | 主分类号 | H01L21/67(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人 | 屈蘅;李时云 |
| 主权项 | 一种基座系统，包括基座内腔、水路、气路、水阀以及气阀，其特征在于，所述水路以及气路分别单独连接所述基座内腔，所述水阀设置于所述水路上，所述气阀设置于所述气路上。 | ||
| 地址 | 100176 北京市大兴区北京经济技术开发区（亦庄）文昌大道18号 | ||