含有卤素含氧酸、其盐及其衍生物的微电子清洗组合物

摘要

本发明涉及含有卤素含氧酸、其盐及其衍生物的微电子清洗组合物。本发明通过包含氢卤酸、其盐及其衍生物的微电子清洗组合物提供了用于清洗微电子基板的微电子清洗组合物，尤其是用于微电子基板并且对微电子基板以及镀Al或Al(Cu)的基板和先进的互连技术具有改进的相容性的清洗组合物，所述微电子基板的特征在于二氧化硅、敏感的低-κ或高-κ电介质并镀铜、钨、钽、镍、金、钴、钯、铂、铬、钌、铑、铱、铪、钛、钼、锡和其它金属。

主权项

用于稳定组合物中的氧化剂中的可用卤素的量的方法，其中所述组合物包含：(a)氧化剂，其选自卤素含氧酸衍生物，其中所述衍生物选自卤化异氰酸酯、二氧化氯、一氧化氯和次氯酸盐‑亚磷酸盐复合物，和(b)组分(a)的溶剂，该方法包括向所述组合物中加入稳定有效量的稳定剂，该稳定剂选自三唑、噻唑、四唑和咪唑。