发明名称 |
阵列基板、彩膜基板、显示装置及取向层的制作方法 |
摘要 |
本发明提供阵列基板、彩膜基板、显示装置及取向层的制作方法,涉及显示技术领域,能够减少左视区与右视区之间的串扰,提高双视显示装置的显示效果。该阵列基板包括第一基板,设置在所述第一基板上的开关单元,还包括:设置于所述开关单元上的第一取向层,所述第一取向层包括相互交替排布的第一取向单元和第二取向单元,所述第一取向单元的取向方向与所述第二取向单元的取向方向相互垂直。彩膜基板包括第二基板,设置在第二基板上的彩色光阻层,还包括设置于彩色光阻层上的第二取向层,第二取向层包括相互交替排布的第一取向区域和第二取向区域,第一取向区域的取向方向与第二取向区域的取向方向相互垂直。 |
申请公布号 |
CN103412441A |
申请公布日期 |
2013.11.27 |
申请号 |
CN201310340451.5 |
申请日期 |
2013.08.07 |
申请人 |
京东方科技集团股份有限公司 |
发明人 |
武延兵 |
分类号 |
G02F1/1337(2006.01)I;G02F1/1362(2006.01)I;G02F1/1335(2006.01)I;H01L27/12(2006.01)I |
主分类号 |
G02F1/1337(2006.01)I |
代理机构 |
北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 |
代理人 |
申健 |
主权项 |
一种阵列基板,包括第一基板,设置在所述第一基板上的开关单元,其特征在于,还包括:设置于所述开关单元上的第一取向层,所述第一取向层包括相互交替排布的第一取向单元和第二取向单元,所述第一取向单元的取向方向与所述第二取向单元的取向方向相互垂直。 |
地址 |
100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 |