用于热处理腔室的边缘环

摘要

本发明的实施例提供具有增加温度均匀度的用于支撑基板的边缘环。更特定言之，本发明的实施例提供边缘环，该边缘环具有形成于边缘环的能量接收表面上的一或更多个表面面积增加结构。

主权项

一种用以于处理腔室中支撑基板的边缘环，所述边缘环包含：环形主体，所述环形主体由内缘、外缘、上侧及下侧所界定，其中所述内缘及所述外缘绕中心轴而同心；唇部，所述唇部由所述环形主体的所述内缘向内径向延伸，其中所述唇部的上表面的至少一部分经构成以绕基板的外缘而支撑所述基板，使得所述基板实质平行于垂直所述中心轴的主要平面；及一或更多个表面面积增加结构，所述一或更多个表面面积增加结构形成于所述环形主体的所述上侧或下侧的至少一侧上。