| 发明名称 | 电子照相感光体、处理盒及成像装置 | ||
| 摘要 | 本发明提供了一种电子照相感光体、处理盒以及成像装置，其中该电子照相感光体包括：导电基体；以及设置在导电基体上的单层感光层，该单层感光层含有粘结剂树脂、电荷发生材料、空穴传输材料和电子传输材料，其中，正充电时的半衰减曝光量小于或等于0.18μJ/cm2，并且负充电时的半衰减曝光量为正充电时的半衰减曝光量的2倍至12倍。通过使用本发明的电子照相感光体，重像得到了抑制。 | ||
| 申请公布号 | CN103376674A | 申请公布日期 | 2013.10.30 |
| 申请号 | CN201310048304.0 | 申请日期 | 2013.02.06 |
| 申请人 | 富士施乐株式会社 | 发明人 | 齐藤阳平;坂东浩二;山本真也;岩崎真宏;山下敬之;是永次郎;山野裕子 |
| 分类号 | G03G5/047(2006.01)I;G03G5/06(2006.01)I;G03G21/18(2006.01)I;G03G15/00(2006.01)I | 主分类号 | G03G5/047(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人 | 丁业平;常海涛 |
| 主权项 | 一种电子照相感光体，包括：导电基体；以及单层感光层，其设置在所述导电基体上，并且含有粘结剂树脂、电荷发生材料、空穴传输材料和电子传输材料，其中，正充电时的半衰减曝光量小于或等于0.18μJ/cm2，并且负充电时的半衰减曝光量为所述正充电时的半衰减曝光量的2倍至12倍。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||