PROJEKTIONSSYSTEM MIT STATISCHEN MUSTERERZEUGUNGSELEMENTEN UND MEHREREN OPTISCHEN KANÄLEN ZUR OPTISCHEN 3D-VERMESSUNG

摘要

Ein Projektionssystem zur Projektion zumindest eines Musters auf zumindest ein in einer Messobjektregion befindliches Objekt umfasst eine erste Lichtquelle, eine zweite Lichtquelle, eine erste Projektorgruppe und eine zweite Projektorgruppe. Sowohl die erste Projektorgruppe als auch die zweite Projektorgruppe umfasst mehrere zweidimensional angeordnete Projektoreinheiten. Jede Projektoreinheit umfasst ein statisches Mustererzeugungselement, eine in einer Durchleuchtungsrichtung vor dem statischen Mustererzeugungselement liegende Feldlinse und eine in der Durchleuchtungsrichtung hinter dem statischen Mustererzeugungselement liegenden Projektionslinse. Jede Projektoreinheit ist konfiguriert, auf von der ersten bzw. zweiten Lichtquelle ausgesendetes Licht zu wirken und ein jeweiliges Teilmuster zu projizieren. Die erste Projektorgruppe ist der ersten Lichtquelle und die zweite Projektorgruppe der zweiten Lichtquelle zugeordnet. Die erste bzw. zweite Projektorgruppe ist konfiguriert, eine erste bzw. zweite Mehrzahl von Teilmustern zu erzeugen, die ein erstes bzw. zweites resultierendes Muster ergeben und somit mittels einer strukturgebenden Einheit für sich allein betrachtet das erste bzw. zweite resultierende Muster innerhalb der Messobjektregion zu erzeugen. Die erste Lichtquelle und die zweite Lichtquelle sind unabhängig voneinander ansteuerbar, so dass das erste resultierende Muster und das zweite resultierende Muster zu verschiedenen Zeiten oder mit verschiedenen Helligkeiten projiziert werden können.