| 主权项 |
一种用于将具有第一晶格对称和第一最近相邻距离的特征的期望的二维周期性图案印刷到光敏层中的方法，包括：a）提供承载由特征的至少两个重叠周期性子图案组成的掩模图案的掩模，所述至少两个重叠周期性子图案中的每一个具有第二晶格对称和第二最近相邻距离，每个子图案的特征被形成在至少一个透射材料中或上；b）提供承载所述光敏层的衬底；c）将所述掩模布置为与所述衬底基本上平行且与所述衬底具有间隔；d）提供具有用于照射所述掩模图案的中心波长和光谱带宽的基本上准直的光，以生成透射光场，在所述透射光场中，所述中心波长的光形成塔尔博特平面之间的横向强度分布的范围；d）在维持所述间隔和将所述间隔改变位移距离之一的同时，利用所述光来照射所述掩模图案，从而将所述光敏层基本上曝光于横向强度分布的范围的平均，这印刷了期望的图案；其中，所述间隔被根据所述光谱带宽和所述第二最近相邻距离加以布置并在照射期间被维持，或者在照射期间被改变与所述中心波长和所述第二最近相邻距离相关的位移距离；其中，所述子图案被形成为使得由每个子图案透射的光在相位上相对于由至少一个其他子图案透射的光偏移；以及其中，与所述中心波长相关地选择所述第二最近相邻距离，使得在所述透射光场中形成第一衍射阶。 |
