热丝化学气相沉积装置

摘要

本实用新型公开了一种热丝化学气相沉积装置，包括电控柜，所述电控柜通过控制线分别连接有CVD镀膜室、冷水机和气源，所述CVD镀膜室分别与冷水机、气源相连接，所述CVD镀膜室上还连接有真空获得系统。本实用新型解决了现有技术中因基片上方温度不均匀而影响镀膜质量的问题，通过使热丝间、热丝与基片之间均保持相互平行，保证了基片台上方有均匀的温度场，增加了热丝的使用寿命，提高了沉积速率和成膜的一致性、均匀性，使镀膜均匀度小于3%，且本实用新型采用的真空获得系统的极限真空指标能够达到2×10ˉ5Pa，从而保证了成膜纯度，提高了镀膜质量。

主权项

一种热丝化学气相沉积装置，包括电控柜，其特征在于：所述电控柜通过控制线分别连接有CVD镀膜室、冷水机和气源，所述CVD镀膜室分别与冷水机、气源相连接，所述CVD镀膜室上还连接有真空获得系统。