发明名称 含氧半导体薄膜电晶体之制作方法及显示装置之制作方法
摘要 一种含氧半导体薄膜电晶体(oxide thin film transistor,OTFT)之制作方法,其系利用沈积制程形成薄膜电晶体之含氧半导体活性层,其中进行沈积制程时所用的气体之总流量大于100每分钟标准毫升,所用的电功率介于1.5千瓦至10千瓦。由此方法制作的含氧半导体薄膜电晶体具有低漏电、高电子移动性以及良好温度稳定性等优点。本发明还涉及一种显示装置之制作方法,能有效提升显示品质。
申请公布号 TWI409957 申请公布日期 2013.09.21
申请号 TW098145325 申请日期 2009.12.28
申请人 元太科技工业股份有限公司 新竹市新竹科学工业园区力行一路3号 发明人 辛哲宏;王裕霖;舒芳安;蔡燿州
分类号 H01L29/786;H01L21/336;G09F9/00 主分类号 H01L29/786
代理机构 代理人 郭晓文 台北市文山区罗斯福路6段407号4楼
主权项
地址 新竹市新竹科学工业园区力行一路3号