发明名称 |
含氧半导体薄膜电晶体之制作方法及显示装置之制作方法 |
摘要 |
一种含氧半导体薄膜电晶体(oxide thin film transistor,OTFT)之制作方法,其系利用沈积制程形成薄膜电晶体之含氧半导体活性层,其中进行沈积制程时所用的气体之总流量大于100每分钟标准毫升,所用的电功率介于1.5千瓦至10千瓦。由此方法制作的含氧半导体薄膜电晶体具有低漏电、高电子移动性以及良好温度稳定性等优点。本发明还涉及一种显示装置之制作方法,能有效提升显示品质。 |
申请公布号 |
TWI409957 |
申请公布日期 |
2013.09.21 |
申请号 |
TW098145325 |
申请日期 |
2009.12.28 |
申请人 |
元太科技工业股份有限公司 新竹市新竹科学工业园区力行一路3号 |
发明人 |
辛哲宏;王裕霖;舒芳安;蔡燿州 |
分类号 |
H01L29/786;H01L21/336;G09F9/00 |
主分类号 |
H01L29/786 |
代理机构 |
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代理人 |
郭晓文 台北市文山区罗斯福路6段407号4楼 |
主权项 |
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地址 |
新竹市新竹科学工业园区力行一路3号 |