发明名称 用于产生EUV辐射或软X射线的方法和设备
摘要 本发明涉及一种用于借助于电操作放电产生光学辐射,尤其是EUV辐射或软x射线的方法和设备。在至少两个电极(1,2)之间的气体介质中点燃等离子体(15),其中所述气体介质至少部分地从液态材料(6)产生,所述液态材料施加到在放电空间中移动的表面,并且至少部分地通过一个或若干脉冲能量束蒸发。在所提出的方法和设备中,所述脉冲能量束的脉冲(9)被定向到相对于所述表面的移动方向的至少两个不同侧向位置。利用该措施,辐射发射体积被展开,对空间波动较不敏感并且可以更好地适应任何应用的光学系统的要求。此外,可以通过该措施增大光学输出功率。
申请公布号 CN102119583B 申请公布日期 2013.09.11
申请号 CN200980129700.8 申请日期 2009.07.21
申请人 皇家飞利浦电子股份有限公司 发明人 J.W.内夫;D.M.沃德雷万格;P.青克
分类号 H05G2/00(2006.01)I 主分类号 H05G2/00(2006.01)I
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人 龚海军;刘鹏
主权项 一种借助于电操作放电产生光学辐射的设备,包括:‑ 至少两个电极(1,2),设置在放电空间中,彼此相距一定距离,该距离允许在所述电极(1,2)之间的气体介质中点燃等离子体(15),‑ 用于将液态材料(6)施加到通过所述放电空间移动的表面的设备,以及‑ 能量束设备,适于将一个或若干脉冲能量束定向到所述表面上,至少部分地蒸发所述施加的液态材料(6),从而产生至少一部分所述气体介质,‑ 其中所述能量束设备被设计成在相对于所述表面的移动方向的不同侧向位置处施加所述脉冲能量束的脉冲(9),从而在所述表面的移动期间在所述表面处实现冲击点(16)的周期性重复图案(17)。
地址 荷兰艾恩德霍芬