发明名称 |
一种圆片级高Q值硅基电感结构 |
摘要 |
本实用新型涉及一种圆片级高Q值硅基电感结构,属于半导体封装技术领域。其包括硅基体(1)、有机绝缘层(4)和通过有机绝缘层(4)置于硅基体(1)上方的电感线圈(6),硅基体(1)与有机绝缘层(4)相连接的表面沿电感线圈(6)内径方向设置凹槽(11),凹槽(11)通过内填的有机绝缘物(3)与有机绝缘层(4)连接,硅基体(1)和有机绝缘层(4)之间设置氧化层(2),有机绝缘层(4)上溅射或沉积电镀种子层(5),电感线圈(6)通过种子层(5)固定于有机绝缘层(4)上,电感线圈(6)的间隙设置保护层(7)。本实用新型通过在硅基体内的凹槽内填充有机绝缘物,大幅度降低了电感的涡流损耗,从而提高了电感的Q值。 |
申请公布号 |
CN203179874U |
申请公布日期 |
2013.09.04 |
申请号 |
CN201320165564.1 |
申请日期 |
2013.04.07 |
申请人 |
江阴长电先进封装有限公司 |
发明人 |
卞新海;郭洪岩;张黎;陈锦辉;赖志明 |
分类号 |
H01L23/522(2006.01)I |
主分类号 |
H01L23/522(2006.01)I |
代理机构 |
南京经纬专利商标代理有限公司 32200 |
代理人 |
彭英 |
主权项 |
一种圆片级高Q值硅基电感结构,包括硅基体(1)、有机绝缘层(4)和通过有机绝缘层(4)置于硅基体(1)上方的电感线圈(6),所述有机绝缘层(4)是多层,其特征在于:所述硅基体(1)与有机绝缘层(4)相连接的表面沿电感线圈(6)内径方向设置凹槽(11),所述凹槽(11)通过内填的有机绝缘物(3)与有机绝缘层(4)连接。 |
地址 |
214429 江苏省无锡市江阴市高新技术产业开发园区(澄江东路99号) |