发明名称 |
制造WOLED的方法、WOLED及显示设备 |
摘要 |
本发明公开了一种制造WOLED的方法、WOLED及显示设备,该方法包括:基于构图工艺在基板上形成包含阳极阵列的阵列基板,以及基于构图工艺形成彩色滤光基板,包括:在所述阵列基板上依次沉积透明有机薄膜和反射金属薄膜;图案化所述反射金属薄膜去除所述阳极电极上方的金属薄膜;以所述图案化后的金属薄膜为掩膜刻蚀所述透明有机薄膜,暴露出所述阳极电极,形成像素定义图案;在形成像素定义图案的阵列基板上依次蒸镀有机发光单元和阴极;将包含有机发光单元和阴极的阵列基板和彩色滤光基板进行贴合,形成WOLED,能够较好地避免现有技术中存在的WOLED漏光现象,提高显示设备的图像显示质量。 |
申请公布号 |
CN103268921A |
申请公布日期 |
2013.08.28 |
申请号 |
CN201210592451.X |
申请日期 |
2012.12.31 |
申请人 |
上海天马微电子有限公司 |
发明人 |
熊志勇;赵本刚 |
分类号 |
H01L51/56(2006.01)I;H01L51/52(2006.01)I;H01L27/32(2006.01)I |
主分类号 |
H01L51/56(2006.01)I |
代理机构 |
北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 |
代理人 |
刘松 |
主权项 |
一种制造白光有机发光二极管WOLED的方法,基于构图工艺在基板上形成包含阳极阵列的阵列基板,以及基于构图工艺形成彩色滤光基板,其特征在于,包括:在所述阵列基板上依次沉积透明有机薄膜和反射金属薄膜;图案化所述反射金属薄膜去除所述阳极电极上方的金属薄膜;以所述图案化后的金属薄膜为掩膜刻蚀所述透明有机薄膜,暴露出所述阳极电极,形成像素定义图案;在形成像素定义图案的阵列基板上依次蒸镀有机发光单元和阴极;将包含有机发光单元和阴极的阵列基板和彩色滤光基板进行贴合,形成WOLED。 |
地址 |
201201 上海市浦东新区汇庆路889号 |