发明名称 |
薄膜晶体管 |
摘要 |
本发明是有关于一种薄膜晶体管,其包括栅极、半导体层、绝缘层、源极、漏极以及电流抑制层。绝缘层配置于栅极与半导体层之间。源极连接至半导体层。漏极连接至半导体层,其中源极与漏极彼此分离配置。电流抑制层具有第一部分与第二部分,其中第一部分配置于半导体层与至少部分源极之间,且第二部分配置于半导体层与至少部分漏极之间。 |
申请公布号 |
CN103258856A |
申请公布日期 |
2013.08.21 |
申请号 |
CN201210116344.X |
申请日期 |
2012.04.17 |
申请人 |
元太科技工业股份有限公司 |
发明人 |
王裕霖;叶佳俊;蔡学宏;辛哲宏 |
分类号 |
H01L29/786(2006.01)I;H01L29/06(2006.01)I |
主分类号 |
H01L29/786(2006.01)I |
代理机构 |
北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019 |
代理人 |
寿宁;张华辉 |
主权项 |
一种薄膜晶体管,其特征在于其包括:栅极;半导体层;绝缘层,配置于该栅极与该半导体层之间;源极,连接至该半导体层;漏极,连接至该半导体层,其中该源极与该漏极彼此分离配置;以及电流抑制层,具有第一部分与第二部分,其中该第一部分配置于该半导体层与至少部分该源极之间,且该第二部分配置于该半导体层与至少部分该漏极之间。 |
地址 |
中国台湾新竹市科学工业园区力行一路3号 |