发明名称 一种蚀刻方法及其所用蚀刻抛光液
摘要 本发明公开一种用于金属制品平面以及与所述平面连接的曲面进行蚀刻加工的方法,所述方法通过控制在金属制品平面和曲面上掩膜块和掩膜间隙的尺寸,以及在蚀刻过程中对蚀刻时间、蚀刻压力等相关工艺参数的控制,在金属制品表面形成凸凹起伏的连续微结构,凹坑的深度从平面的中心到曲面的边缘逐渐减小,凹坑截面呈正弦波的波谷状圆弧,凸起无明显棱边,凸起转接处平滑过渡,凸起的截面近似四棱柱状,整体结构过渡平缓,微结构呈现从有到无逐渐过渡性的衔接,具备较好的视觉和触觉效果,能够满足更好的防滑性能和美观要求。
申请公布号 CN103255416A 申请公布日期 2013.08.21
申请号 CN201310178584.7 申请日期 2013.05.14
申请人 广东工业大学 发明人 王冠;宋卿;黄红光;郭钟宁;张永俊
分类号 C23F1/02(2006.01)I;C23F1/28(2006.01)I;C23F3/06(2006.01)I 主分类号 C23F1/02(2006.01)I
代理机构 广州三环专利代理有限公司 44202 代理人 颜希文;宋静娜
主权项 一种蚀刻方法,所述蚀刻方法用于具有平面和与所述平面连接的圆弧曲面的金属制品表面的蚀刻加工,其特征在于,包括以下步骤:(1)掩膜处理:在所述金属制品的平面和曲面上涂覆多个方形掩膜块,所述平面上掩膜块边长大小均匀一致,所述平面与曲面连接处的掩膜块边长小于平面上的掩膜块,所述曲面上的掩膜块边长由平面与曲面的连接处到曲面的边缘处逐渐减小,相邻两个掩膜块之间的间隙为掩膜间隙,所述掩膜间隙由平面的中心到平面与曲面的连接处、再到曲面的边缘处逐渐减小;(2)蚀刻加工:将掩膜后的金属制品置于蚀刻机中进行蚀刻加工,从蚀刻机喷嘴中喷出的蚀刻液的压力为0.2~0.4psi,蚀刻时间为3~10min;(3)脱膜:将蚀刻后的金属制品清洗脱膜,去除掩膜块;(4)二次处理:将脱膜后的金属制品放到抛光液中浸泡,然后清洗即可。
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