发明名称 用于使用X射线分析在对象中的受关注区域的方法和设备
摘要 一种用于分析对象中的受关注的区域的方法和设备。该方法包括:(a)通过微分相衬X射线成像系统提供测量数据,以及(b)分析受关注的区域中的对象的特性。其中,测量数据包括像素的2维或3维集合,其中针对每个像素,测量数据包括在空间上彼此对齐的三种类型的图像数据,包括(i)吸收表示图像数据A,(ii)微分相衬表示图像数据D,(iii)相干性表示图像数据C。针对每个像素,分析步骤是基于包括在吸收表示图像数据A中的信息和包括在微分相衬表示图像数据D中的信息以及包括在相干性表示图像数据C中的信息中的至少两种信息的组合。
申请公布号 CN103261878A 申请公布日期 2013.08.21
申请号 CN201180059828.9 申请日期 2011.12.05
申请人 皇家飞利浦电子股份有限公司 发明人 I-C·卡尔森;T·克勒;G·马滕斯;E·勒斯尔;R·维姆科
分类号 G01N23/04(2006.01)I;G01N23/20(2006.01)I 主分类号 G01N23/04(2006.01)I
代理机构 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人 张伟;王英
主权项 一种分析对象中的受关注的区域的方法,所述方法包括:‑通过微分相衬X射线成像系统提供测量数据,所述测量数据包括像素的至少2维集合,其中针对每个像素,所述测量数据包括在空间上彼此对齐的三种类型的图像数据,所述三种类型的图像数据包括:‑吸收表示图像数据A,‑微分相衬表示图像数据D,以及‑相干性表示图像数据C,‑针对每个像素,基于包括在所述吸收表示图像数据A中的信息和包括在所述微分相衬表示图像数据D中的信息以及包括在所述相干性表示图像数据C中的信息中的至少两种信息的组合来分析在受关注的所述区域中所述对象的特性。
地址 荷兰艾恩德霍芬