| 摘要 |
本发明系提供一种半导体成膜结果检测调整系统及其方法，所述半导体成膜结果检测调整系统系包括：一成膜色差影像撷取单元，藉以撷取矽晶半导体工件表面成膜部位之影像；一色差分析单元，藉以对影像进行色差分析；一电脑运算单元，藉以将色差分析结果与电脑运算单元中所建制的成膜色差资料进行匹配比对之运算；一制程参数调整单元，依据运算结果自动控制调整矽晶半导体制程设备的控制参数；藉此，所述半导体成膜结果检测调整系统及方法应用上，俾可利用影像撷取手段对半导体成膜制程结果进行色差检测分析，再经电脑运算比对，最终可透过控制调整制程设备的分区控温、分区控流等控制参数，以调整成膜色差之差异状态，获得最均匀之成膜结果而特具其实用进步性。 |
