摘要 |
Vorrichtung zum Erfassen von Umgebungs- und Betriebsparametern in Plasmen mit wenigstens zwei ineinander liegenden Gitterstrukturen (1, 2, 36) und mit einem innerhalb der innersten Gitterstruktur (2) angeordneten Metallkörper (5, 65, 70), wobei die Gitterstrukturen (1, 2, 36) und der Metallkörper (5, 65, 70) durch elektrisch isolierende Abstandshalter (12, 13, 14, 42) voneinander getrennt und wahlweise mit vorbestimmten elektrischen Potentialen beaufschlagbar sind, dadurch gekennzeichnet, dass der Metallkörper (5, 65, 70) wenigstens eine Eintrittsausnehmung (6, 68, 69, 73, 74, 75) aufweist, wobei die oder jede Eintrittsausnehmung (6, 68, 69, 73, 74, 75) so angeordnet ist, dass der Metallkörper (5, 65, 70) wenigstens eine ausgezeichnete Vorzugsrichtung zum Erfassen von den Metallkörper (5, 65, 70) beaufschlagenden Strahlen (11) und/oder Teilchen (17) aufweist. |
申请人 |
FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FOERDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V. |
发明人 |
SCHMIDTKE, GERHARD, DR.;KONZ, WERNER, DR.;LAMBRECHT, ARMIN, DR.;BRUNNER, RAIMUND, DR. |