发明名称 | 半导体图案化操作的经改进均匀性 | ||
摘要 | 半导体装置优化的系统及方法包含用以确定用于所述半导体装置的层的数据集的系统及方法,其中操作包含:接收界定半导体装置的层中的牺牲材料的多个原始图案的数据集,其中使用牺牲材料的所述原始图案来界定间隔件材料的放置以界定所述半导体装置的电路元件的图案化;确定跨越所述半导体装置的所述层的一部分的区域中的牺牲材料的所述多个原始图案的密度;及扩充所述数据集以包含所述层的具有比阈值密度低的密度的区域中的牺牲材料的额外图案。 | ||
申请公布号 | CN101918948B | 申请公布日期 | 2013.07.24 |
申请号 | CN200980102232.5 | 申请日期 | 2009.01.08 |
申请人 | 益华公司 | 发明人 | 克里斯托夫·皮埃拉 |
分类号 | G06F17/50(2006.01)I | 主分类号 | G06F17/50(2006.01)I |
代理机构 | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人 | 孟锐 |
主权项 | 一种确定用于半导体装置的层的数据集的方法,其包括:接收界定半导体装置的层中的牺牲材料的多个原始图案的数据集,其中使用牺牲材料的所述原始图案来界定间隔件材料的放置以界定所述半导体装置的电路元件的图案化;确定跨越所述半导体装置的所述层的一部分的区域中的牺牲材料的所述多个原始图案的密度;及扩充所述数据集以包含所述层的具有比阈值密度低的密度的区域中的牺牲材料的额外图案。 | ||
地址 | 美国加利福尼亚州 |