| 摘要 |
本发明为一种基板处理装置，利用处理液对基板进行处理，上述装置包含以下要素：处理槽，储留处理液，可收容基板；保持机构，保持基板，可跨及上述处理槽内之处理位置、与位于上述处理槽上方之上方位置而移动；第一供给部，向上述处理槽供给纯水；第二供给部，向上述处理槽供给液体之水溶性有机溶剂；第三供给部，向上述处理槽供给液体之非水溶性有机溶剂；以及，控制部，于藉由上述保持机构将基板移动至处理位置之状态下，使上述第一供给部向上述处理槽供给纯水而对基板进行纯水清洗处理，且使上述第二供给部向上述处理槽供给水溶性有机溶剂而将上述处理槽内之纯水取代成水溶性有机溶剂，利用水溶性有机溶剂对基板进行处理，使上述第三供给部向上述处理槽供给非水溶性有机溶剂，同时，使上述第二供给部向上述处理槽供给水溶性有机溶剂而利用水溶性有机溶剂以及非水溶性有机溶剂之混合液对基板进行处理，之后，使上述保持机构移动至上方位置。 |
