发明名称 氧化物材料、及溅镀靶
摘要 本发明提供一种其特征系含有铟(In)、锡(Sn)、及金属元素M,含有钛铁矿构造化合物之氧化物材料;由其所成的溅镀靶;使用其所成膜的透明导电膜;由其所成的透明电极。
申请公布号 TWI401234 申请公布日期 2013.07.11
申请号 TW095134820 申请日期 2006.09.20
申请人 出光兴产股份有限公司 日本 发明人 矢野公规;井上一吉;田中信夫
分类号 C04B35/457;C04B35/01;C23C14/08;C23C14/34 主分类号 C04B35/457
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项
地址 日本