光阻下层聚合物、光阻下层组成物及使用其等之图案化方法

摘要

揭示用于光阻下层之聚合物、包括其等之光阻下层组成物，以及图案化装置的方法。该聚合物包括由下列的化学式1表示的重覆单元及/或由下列的化学式2表示的重覆单元。;[化学式1];[化学式2];于以上化学式1或2中，各取代基系如详细说明中定义的一样。